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TEM透射電鏡基本原理
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透射電子顯微鏡(TEM)是以電子束作為照明源，用電磁透鏡聚焦成像的一種高放大倍數(shù)的電子光學儀器。根據(jù)不同工作模式，可以做高分辨掃描透射STEM, 高分辨TEM像，配備的球差自動校正實現(xiàn)原子級成像，晶體的選區(qū)衍射SAD，F(xiàn)FT快速傅里葉變換做微區(qū)晶型分析，其EDX能譜可以做空間分辨率達到納米級的元素分析；配備的電子能量損失譜EELS, 適合于輕元素如C/N/O/Si在納米范圍內的分析。 由電子槍發(fā)射出來的電子束，在真空通道中沿著鏡體光軸穿越聚光鏡，會聚成一束尖細、明亮而又均勻的光斑，照射在樣品室內的樣品上；透過樣品后的電子束攜帶有樣品內部的結構信息，樣品內致密處透過的電子量少，稀疏處透過的電子量多；經過物鏡的會聚調焦和初級放大后，電子束進入下級的中間透鏡和第1、第2投影鏡進行綜合放大成像，最終被放大了的電子影像投射在觀察室內的熒光屏板上；從而將電子影像轉化為可見光影像以供觀察。 |  |
TEM透射電鏡儀器介紹
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 | 儀器能力介紹： STEM分辨率： 0.08nm @ Cs校正 TEM點分辨率0.204nm,晶格分辨率0.1nm EDS能量分辨率：131eV, EDS空間分辨率1~5nm EELS能量分辨率：1.0eV, 空間分辨率0.5nm 電壓：80KV~200KV EDS：Super-X EDS, SDD無窗4探頭， 0.98Srad EELS：Gatan 977 Enfinium ER |
TEM透射電鏡分析示例
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